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超高純度で耐食性および耐熱性に優れている当社のSiCウエハは、
長期のリサイクル使用が可能で、LP−CVD用のダミーウエハ、
膜厚モニターウエハ、及び高温拡散のダミーウエハとして最適です。
特徴
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CVD法により作られた、不純物がppbレベルの超高純度完全緻密質のウエハです。
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高温でアルカリ金属や重金属の不純物拡散係数が非常に小さいため、プロセスを汚染する心配がありません。
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弗硝酸などに対する耐食性に優れているため、成膜された膜のみがウェットエッチングにより容易に選択除去され、何回でも繰り返し使えて経済的です。
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SiN、Poly−Si膜などとの熱膨張係数の差が小さく、はがれにくいため、プロセスの中でのパーティクル発生を最小限に抑えます。
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高温プロセスにおいても熱変形がありません。
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